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簡(jiǎn)要描述：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。
產(chǎn)品型號(hào)：M-150和P-150 廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-05-17訪 問 量：2010詳細(xì)介紹
M-150
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。M系列是用于光刻的掩模對(duì)準(zhǔn)器。M-150專為6英寸晶圓設(shè)計(jì)，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個(gè)350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。
技術(shù)參數(shù)
類型 | PLC手動(dòng)控制系統(tǒng) | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7英寸 | 紫外光強(qiáng)度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對(duì)準(zhǔn)精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項(xiàng) | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
P-150
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。P-150專為6英寸晶圓設(shè)計(jì)，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個(gè)350W的紫外線源。365nm處的光功率為25mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。
技術(shù)參數(shù)
類型 | 觸摸屏PC手動(dòng)控制系統(tǒng) | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7x7英寸 | 紫外光強(qiáng)度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對(duì)準(zhǔn)精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項(xiàng) | IR BSA, CCD BSA |
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